Anlagen
PVD-Anlage 10-950
Bei der PVD-Anlage 10-950 handelt es sich um eine Großanlage, die für spezielle Werkzeuge, z. B. Räumwerkzeuge ausgelegt ist. 1,50 m Kammerhöhe und 950 Liter Volumen kennzeichnen die bisher größte Anlage unserer Baureihe.
PVD-Anlage 10-950
Wie alle GPA-PVD-Anlagen ist sie nach einem Konzept aufgebaut, das Robustheit und lange Lebensdauer garantiert.
Spezifikationen PVD-Anlage 10-950
Beschichtungskammer | Abm. Ø 900 x 1.500 mm Werkstoff austenitischer Stahl doppelwandig; vollflächig gekühlt bzw. ausheizbar |
Drehantrieb | stufenlose Drehzahlregelung
Rechts-/Linkslauf
Chargengewicht bis 500 kg
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Verdampfer | 10 Arc-Spot-Verdampfer in 2 à 5; alternativ 12 Arc-Spot-Verdampfer in 3 Reihen à 4 aktive Kathodenfläche 50 cm2 |
Verdampfer-Stromversorgungen | 10 alt. 15 Stück max. 100 A |
Hochspannungsversorgung | 0 – 1.000 V unipolar gepulst 0 – 50 ADC 0 – 120 APuls schnelle Arc-Abschaltung |
Substratheizung | 4 Heizungen à 15 kW |
Substrat-Temperaturmessung | Pyrometer 150 – 550 °C |
Prozessgas-Steuerung | 4 Mass Flow Controller (Argon, Wasserstoff, Stickstoff, Kohlenstoffträgergas) |
Vorvakuumpumpstand | Drehschieber/Rootspumpenkombination Saugleistung S 730 m3 / h |
Hochvakuumpumpe | Cryopumpe Saugleistung H2O 18.000 ; Ar 3.700 ; N2 5.000; H2 5.500 L/sec. |
Hochvakuumventil | schrittmotor-gesteuerter Regelschieber DN 400
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Vakuummessung | Pirani gasart unabhängiges Messgerät |
Prozesssteuerung | Vollautomatisch, Industrie PC Parameter, Rampen etc. frei programmierbar |
Zubehör (optional) | Kalt-/Warmwasserversorgung Prozessgasversorgung 3fach planetarisch rotierende Substrathalter |
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