Anlagen
PVD-Anlage 10-950

Bei der PVD-Anlage 10-950 handelt es sich um eine Großanlage, die für spezielle Werkzeuge, z. B. Räumwerkzeuge ausgelegt ist. 1,50 m Kammerhöhe und 950 Liter Volumen kennzeichnen die bisher größte Anlage unserer Baureihe.

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Introbild PVD-Anlage 10-950

PVD-Anlage 10-950

Wie alle GPA-PVD-Anlagen ist sie nach einem Konzept aufgebaut, das Robustheit und lange Lebensdauer garantiert.

  • Doppelwandige oktogonale Beschichtungskammern aus Edelstahl, vollflächig gekühlt, für höchste Maßhaltigkeit und Optik auch nach Jahren
  • Die gesamte Anlage wird platzsparend auf einem kompakten Edelstahlgestell montiert
  • Plug-In-System (zentraler Übergabepunkt für alle Anschlüsse wie Strom, Druckluft, Kühlaggregat, Gase) ermöglicht die Inbetriebnahme innerhalb eines Tages
  • Ent- und Beladen kompletter Chargen mittels Chargierdolly
  • Check Control: automatische Anzeige der Wartungsintervalle
  • Inklusive bewährter Rezepturen für alle Schichtsysteme
  • Eigene Entwicklungen können schnell und einfach abgespeichert werden
  • Fernwartungsmodul wahlweise über Internet oder ISDN
  • Schulung des Bedienpersonals an baugleichen Anlagen vor der Inbetriebnahme möglich
Anlagen PVD-Anlage 10-950

Spezifikationen PVD-Anlage 10-950

Beschichtungskammer
Abm. Ø 900 x 1.500 mm Werkstoff austenitischer Stahl doppelwandig; vollflächig gekühlt bzw. ausheizbar
Drehantrieb
stufenlose Drehzahlregelung Rechts-/Linkslauf Chargengewicht bis 500 kg
Verdampfer
10 Arc-Spot-Verdampfer in 2 à 5; alternativ 12 Arc-Spot-Verdampfer in 3 Reihen à 4 aktive Kathodenfläche 50 cm2
Verdampfer-Stromversorgungen
10 alt. 15 Stück max. 100 A
Hochspannungsversorgung
0 – 1.000 V unipolar gepulst 0 – 50 ADC 0 – 120 APuls schnelle Arc-Abschaltung
Substratheizung
4 Heizungen à 15 kW
Substrat-Temperaturmessung
Pyrometer 150 – 550 °C
Prozessgas-Steuerung
4 Mass Flow Controller (Argon, Wasserstoff, Stickstoff, Kohlenstoffträgergas)
Vorvakuumpumpstand
Drehschieber/Rootspumpenkombination Saugleistung S 730 m3 / h
Hochvakuumpumpe
Cryopumpe Saugleistung H2O 18.000 ; Ar 3.700 ; N2 5.000; H2 5.500 L/sec.
Hochvakuumventil
schrittmotor-gesteuerter Regelschieber DN 400
Vakuummessung
Pirani gasart unabhängiges Messgerät
Prozesssteuerung
Vollautomatisch, Industrie PC Parameter, Rampen etc. frei programmierbar
Zubehör (optional)
Kalt-/Warmwasserversorgung Prozessgasversorgung 3fach planetarisch rotierende Substrathalter

Individuelle Beschichtungsservices: Lassen Sie sich von uns beraten!

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